[CBC뉴스] 이재용 삼성전자 부회장이 네덜란드 에인트호번에 위치한 ASML 본사를 찾아 피터 버닝크 CEO 등을 만나 차세대 반도체 기술 개발을 위한 협력 강화 방안을 논의했다.

아울러  ASML의 반도체 제조장비 생산공장도 방문해  EUV 장비 생산 현황을 직접 살펴보기도 했다고 한다. 이 자리에는 마틴  반 덴 브링크 CTO 등이 있었다. 이번 미팅에는 김기남 삼성전자 DS부문장 부회장이 배석했다.

이재용 부회장과 버닝크 CEO는 7나노 이하 최첨단 반도체 생산에 필수적인 EUV(Extreme Ultra Violet) 장비 공급계획 및 운영 기술 고도화 방안, AI 등 미래 반도체를 위한 차세대 제조기술 개발협력, 코로나19 사태 장기화에 따른 시장 전망 및 포스트 코로나19 대응을 위한 미래 반도체 기술 전략 등에 대한 의견을 나눴다.

이 부회장과 버닝크 CEO의 만남은 처음이 아니다. 2016년 11월 버닝크 CEO가 삼성전자를 방문해 만난적이 있다는 것이다. 이때 ASML 경영진을 만나 차세대 반도체 미세 공정 기술에 관한 협력방안을 논의한 바 있다. 

2019년 2월에는  프랑스 파리에서 만나 반도체 산업에 대한 의견을 나눴다고 한다. 

삼성전자는 "차세대 반도체 구현을 위해 EUV 기술이 필요하다는 판단에 2000년대부터 ASML과 초미세 반도체 공정 기술 및 장비  개발을 위해 협력해 왔으며, 2012년에는 ASML에 대한 전략적 지분 투자를 통해 파트너십을 강화했다"고 밝혔다.

EUV 노광 기술은 극자외선 광원을 사용해 웨이퍼에 반도체 회로를 새기는 기술로, 기존 기술보다 세밀한 회로 구현이 가능해 인공지능(AI)·5세대(5G) 이동통신·자율주행 등에 필요한 최첨단 고성능·저전력·초소형 반도체를 만드는데 필수적인 기술이라는 것이다. 

삼성전자는 최근 시스템반도체에 이어 최첨단 메모리반도체  분야까지 EUV의 활용 범위를 확대해 가고 있으며, 특히 파운드리 사업이 빠르게 성장하면서 두 회사 간 협력 관계도 확대되고 있다고 밝혔다. 

한편 삼성전자는 지난 8월 세계 최대규모 평택 2라인 가동했다고 알렸다. 삼성전자의 평택 2라인은 연면적이 12만8900㎡(축구장 16개 크기)에 달하는 세계 최대규모의 반도체 생산라인이다.

평택 2라인은  D램 양산을 시작으로 차세대 V낸드, 초미세 파운드리 제품까지 생산하는 첨단 복합 생산라인으로 만들어져 4차 산업 혁명 시대의 반도체 초격차 달성을 위한 핵심적인 역할을 할 예정이다.

평택 2라인은 지난 2018년 8월에 발표한 180조원 투자, 4만명 고용 계획의 일환으로 건설된 것으로 삼성전자는 어려운 여건 속에서도 신규투자와 채용을 적극 확대하고 있다.

이에 따라 평택 1라인에 이어 이번 평택 2라인에도 총 30조원 이상의 대규모 투자가 집행된다. 직접 고용하는 인력은 약 4천 명으로 예상되고 협력사 인력과 건설인력을 포함하면 약 3만명 이상의 고용창출이 기대된다는 것이다.

2015년부터 조성된 평택캠퍼스는 289만㎡의 부지를 가진 삼성전자의 차세대 반도체 전초기지다. 평택 1라인은 2017년 6월 양산을 시작했으며, 평택 2라인은 2018년 1월 착공되어 이번에 처음으로 D램 제품을 출하했다.